Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions präsentiert die mehrstufigen Roots-Vakuumpumpen UltiDry
Patentiertes Spülsystem und erhebliche Energieeinsparungen
Zu den wichtigsten Innovationen derUltiDrygehört ihr patentiertes Spüleinspritzsystem, das entwickelt wurde, um die Vakuumpumpe durch Ausspülen von Schadstoffen wie Pulver zu schützen. Diese Funktion gewährleistet stabile Leistung und reibungslosen Betrieb, selbst in Prozessen mit hoher Pulverbelastung.
Für Halbleiterfabriken stellt der Energieverbrauch einen großen Kostenfaktor dar. Mit ihrem optimierten mehrstufigen Roots-Design bietet die UltiDry im Vergleich zu anderen Vakuumpumpen ihrer Klasse Energieeinsparungen von bis zu 87 %. Das reduziert nicht nur den CO?-Fußabdruck, sondern unterstützt Kunden auch dabei, ihre Ziele in Sachen Nachhaltigkeit und Kosteneffizienz zu erreichen.
Die Vakuumpumpen arbeiten in einem großen Temperaturbereich von 50 °C bis 270 °C zuverlässig und passen sich flexibel an unterschiedliche Prozessanforderungen an. Damit eignen sie sich gleichermaßen für temperaturempfindliche Beschichtungsprozesse und korrosive Halbleiteranwendungen. Durch einen stabilen Betrieb auch bei schwankenden Temperaturen unterstützt die UltiDry gleichbleibende Produktqualität und lange Wartungsintervalle. Mit einer Kombination aus korrosionsbeständiger Beschichtung, reduziertem Spülgasverbrauch und hoher Energieeffizienz ist die UltiDry eine langlebige, wartungsarme Lösungfür anspruchsvolle Produktionsumgebungen.
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